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產(chǎn)品介紹!HITACHI 日立離子濺射裝置鉑金靶材 01E-6376

更新時間:2026-09-16點擊次數(shù):163

一、01E-6376 為日立 E-1010 離子濺射裝置原裝高純鉑金靶材,是掃描電鏡樣品導電鍍膜的核心耗材。非金屬、絕緣樣品在 SEM 觀測時極易產(chǎn)生荷電效應,圖像發(fā)白、抖動、模糊,通過離子濺射在樣品表面鍍一層超薄鉑金導電層,即可導出表面積累電荷,消除荷電干擾,獲得清晰穩(wěn)定的電鏡圖像。 

二、靶材鉑金純度高,濺射過程速率穩(wěn)定可控,形成的鉑金鍍層致密均勻,顆粒細微,鍍層極薄,不會覆蓋、掩蓋樣品本身的微觀形貌細節(jié),能夠真實還原樣品表面微觀結(jié)構(gòu),適合生物樣品、高分子材料、陶瓷、地質(zhì)礦物、半導體樣品的電鏡前處理。鍍層均勻性好,樣品各個位置導電層厚度一致性高,批量制樣時樣品之間成像效果差異小,便于多組樣品對比觀測。

 三、原裝靶材的外形尺寸、安裝定位結(jié)構(gòu)匹配日立 E-1010 濺射設(shè)備腔體,安裝簡單,定位精準,無需改造設(shè)備,直接替換使用。靶材使用壽命穩(wěn)定,單位面積可處理樣品數(shù)量多,相比非原廠靶材,濺射過程不易出現(xiàn)靶材開裂、掉顆粒污染樣品的情況,減少樣品報廢風險,降低實驗耗材綜合成本。 

四、廣泛應用于高校材料學院、第三方檢測實驗室、生物實驗室、半導體研發(fā)機構(gòu)的掃描電鏡樣品制備工作。對于多孔、易碎、低硬度的樣品,鉑金濺射鍍膜相比碳膜,成像對比度更佳,更適合觀察細微納米結(jié)構(gòu)。原廠靶材出廠經(jīng)過質(zhì)檢,批次性能穩(wěn)定,可保障長期批量樣品鍍膜實驗的一致性。在 SEM 形貌表征實驗中,這款原裝鉑金靶材是獲得高質(zhì)量電鏡圖片的關(guān)鍵耗材,減少因鍍膜質(zhì)量不佳導致的實驗返工。

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